Розділ 1 · Глава 1.1 Загальна частина

п. 1.1.12 Приміщення з хімічно активним або органічним середовищем

Приміщення, в якому постійно або протягом тривалого часу є присутніми агресивні пари, гази, рідини, утворюються відкладення або цвіль, що руйнують ізоляцію і струмопровідні частини електроустаткування.

Сторінки оригіналу: 7